芯片制作的中心设备：光刻机
的加工进程对精度要求极高，光刻机经过一系列的光源能量、形状操控手法，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种差错，将线路图成份额缩小后映射到硅片上，然后运用化学办法显影，得到刻在硅片上的电路图。越杂乱的芯片，线路图的层数越多，就需求更精密的光刻机。
光刻机的制作和保护需求高度的光学和根底，能够把握这项技能的厂商屈指可数，现在比较闻名的光刻机厂商有尼康、佳能、ABM、欧泰克、上海微电子配备、SUSS等，但是在尖端光刻机范畴，荷兰的ASML公司简直独占了整个商场，占有超越70%的高端光刻机商场，且最新的产品EUV光刻机研制本钱巨大，价格高达1亿美元，但仍旧求过于供。
荷兰ASML公司有一个形式，那便是只要出资它的公司才干够优先得到他们的尖端光刻机。例如蔡司便是出资了ASML，占有了它超越20%的股份。这些公司不单单出资它，也给它供给最新的技能，这样它就不是单枪匹马状况，做到了技能分工。英特尔、台积电笔三星都自动出资入股ASML支撑研制，并有技能人员驻厂，格罗方德、联电及中芯国际等的光刻机首要也是来自ASML，以此优先取得它的最早尖端的光刻机。
ASML公司在2019年年报中，披露了关于下一代EUV极紫光刻机的研制进程。估计2022年年初开始出货，2024年完结大规模出产。依据ASML之前的陈述，上一年该公司出货了26台EUV光刻机，估计2020年交给35台EUV光刻机，2021年则会到达45台到50台的交给量，是2019年的两倍左右。
半导体设备分为晶圆加工设备、检测设备、封装设备和其他设备。晶圆加工设备中，光刻机、刻蚀机、薄膜堆积设备（PVD和CVD）技能难度最高，三者占比分别为30%、25%、25%。
半导体设备高门槛导致竞赛格式高度集中。现在全球半导体设备商场首要被美国、日本、荷兰企业所独占。半导体设备职业前10家公司2007年市占率算计66%，到2018年市占率算计到达81%，提升了15个百分点；前五家公司2007年市占率算计57%，到2018年市占率算计到达71%，提升了14个百分点。2018年全球半导体设备榜单前五名包含运用资料、东京电子、拉姆研讨、ASML和科磊半导体。除ASML外，各家公司产品线均比较丰富，且前三名企业营收均超越一百亿美元。职业CR5占比75%，CR10占比91%。全球半导体设备竞赛格式出现高度集中状况。
光刻机是出产线上最贵的机台，千万-亿美元/台。首要是贵在成像体系和定位体系。一般来说一条产线需求几台光刻机，其折旧速度十分快，大约3～9万人民币/天，所以也称之为印钞机。光刻机作业原理：光刻机经过一系列的光源能量、形状操控手法，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学差错，将线路图成份额缩小后映射到硅片上，然后运用化学办法显影，得到刻在硅片上的电路图。
光源作为光刻机的中心构成，很大程度上决议了光刻机的工艺水平。光源的变迁先后阅历：（a）紫外光源（UV：UltravioletLight），波长最小缩小至365nm；（b）深紫外光源（DUV：DeepUltravioletLight），其间ArFImmersion实践等效波长为134nm；（c）极紫外光源（EUV：ExtremeUltravioletLight），现在大部分最高工艺制程半导体芯片均选用EUV光源。
在集成电路制作工艺中，光刻是决议集成电路集成度的中心工序，在整个硅片加工本钱中占到1/3。光刻的实质是把掩膜版上暂时的电路结构复制到今后要进行刻蚀和离子注入的硅片上。
从光刻机结构来看，它由光源、光学镜片和对准体系等部件组成，其工艺中十分要害的两个元素是光刻胶和掩膜版。而光刻处理后的晶圆片再经刻蚀和堆积等进程制成芯片制品，用于电脑手机等各种设备之中。下流旺盛的终端商场需求决议了光刻设备必定也面对巨大的需求。光刻设备厂商的下流客户首要在于存储和逻辑芯片制作商。
从全球视点来看，高精度IC芯片光刻机长时间由ASML、尼康和佳能三家操纵。ASML，尼康，佳能三家公司简直占有了99%的商场份额，其间ASML光刻机商场份额常年在70%以上，商场位置极端安定。光刻机研制的技能门槛和资金门槛十分高，也正是因而，能出产高端光刻机的厂商十分少，到最早进的14-7nm光刻机就只剩余ASML能出产，日本佳能和尼康现已根本抛弃EUV光刻机的研制。
前四代光刻机运用都归于深紫外光，ArF现已最高能够完结22nm的芯片制程，但在摩尔定律的推动下，半导体工业关于芯片的需求现已发展到14nm，乃至是7nm，浸入式光刻面对更为严峻的镜头孔径和资料应战。第五代EUV光刻机，选用极紫外光，可将最小工艺节点推动至7nm。5nm及以下工艺有必要依托EUV光刻机才干完结。跟着半导体制作工艺向7nm以下继续延伸，EUV光刻机的需求将进一步添加。
2018年我国半导体设备十强单位完结销售收入94.97亿元，同比增加24.6%。国内光刻机厂商有上海微电子、中电科集团四十五研讨所、合肥芯硕半导体等。上海微电子是国内顶尖的光刻机制作商，依据电子工程国际资料，近年来公司经过活跃研制，已完结90nm节点光刻机的量产，并有望延伸至65nm和45nm。因为制程上的距离十分大，国内晶圆厂所需的高端光刻机只能彻底依靠进口。
在《瓦森纳协议》的封闭下，高端光刻机在我国被禁售，即便中端光刻机也有保留条款—制止给国内自主CPU做代工，导致自主技能生长困难重重，光刻机国产化仍有很长的路要走。
（Extreme Ultraviolet Lithography， EUVL）被公认为是最具潜力
流程其实是多道工序将各种特性的资料打磨成形，经循环往复百次后，在晶圆上“刻”出各种电子特性的区域，最终构成数十亿个晶体管并被组合成电子元件。那
触及体系集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境操控等多项先进技能，是一切半导体
是选用相似相片冲印的技能，然后把掩膜版上的精密图形经过光线的曝光印制到硅片上。
